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簡要描述：Eksma 適用于納米應(yīng)用的高功率激光反射鏡
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd：YAG激光器1064 nm，其倍頻532 nm和800 nm，反射率R> 99.9％。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-22訪 問 量：1031詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 適用于納米應(yīng)用的高功率激光反射鏡
Eksma 適用于納米應(yīng)用的高功率激光反射鏡
高損傷閾值激光反射鏡專為納秒級激光應(yīng)用而設(shè)計。使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。
產(chǎn)品介紹
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd：YAG激光器1064 nm，其倍頻532 nm和800 nm，反射率R> 99.9％。
在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下，以10 ns脈沖，100 Hz的反射鏡設(shè)計波長測量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
設(shè)計波長 - 355 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0260HHR | 266 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.5% | >1 J/cm² |
041-0260HHR-i0 | 266 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.5% | >1 J/cm² |
042-0260HHR | 266 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% | >1 J/cm² |
042-0260HHR-i0 | 266 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.5% | >1 J/cm² |
045-0260HHR | 266 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.5% | >1 J/cm² |
045-0260HHR-i0 | 266 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.5% | >1 J/cm² |
設(shè)計波長 - 355 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | SIZE尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0350UHHR | 355 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >10 J/cm² |
041-0350UHHR-i0 | 355 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.8% | >10 J/cm² |
042-0350UHHR | 355 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >10 J/cm² |
042-0350UHHR-i0 | 355 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.8% | >10 J/cm² |
045-0350UHHR | 355 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >10 J/cm² |
045-0350UHHR-i0 | 355 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.8% | >10 J/cm² |
設(shè)計波長 - 532 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0530T6HHR | 532 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >10 J/cm² |
041-0530T6UHHR | 532 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >20 J/cm² |
041-0530T6HHR-i0 | 532 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >10 J/cm² |
041-0530T6UHHR-i0 | 532 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >20 J/cm² |
041-0530T6HHR-i0-45 | 532 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >10 J/cm² |
042-0530HHR | 532 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >10 J/cm² |
042-0530UHHR | 532 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >20 J/cm² |
042-0530HHR-i0 | 532 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >10 J/cm² |
042-0530UHHR-i0 | 532 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >20 J/cm² |
042-0530HHR-i0-45 | 532 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >10 J/cm² |
045-0530T12HHR | 532 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >10 J/cm² |
045-0530T12UHHR | 532 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >20 J/cm² |
045-0530T12HHR-i0 | 532 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >10 J/cm² |
045-0530T12UHHR-i0 | 532 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >20 J/cm² |
045-0530T12HHR-i0-45 | 532 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >10 J/cm² |
設(shè)計波長 - 800 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | SIZE尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0800NT6UHHR | 800 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >30 J/cm² |
041-0800NT6UHHR-i0 | 800 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >30 J/cm² |
042-0800NUHHR | 800 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >30 J/cm² |
042-0800NUHHR-i0 | 800 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >30 J/cm² |
045-0800NT12UHHR | 800 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >30 J/cm² |
045-0800NT12UHHR-i0 | 800 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >30 J/cm² |
設(shè)計波長 - 1064 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-1060T6HHR | 1064 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >20 J/cm² |
041-1060NT6UHHR | 1064 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >40 J/cm² |
041-1060T6HHR-i0 | 1064 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >20 J/cm² |
041-1060NT6UHHR-i0 | 1064 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >40 J/cm² |
041-1060T6HHR-i0-45 | 1064 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >20 J/cm² |
042-1060HHR | 1064 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >20 J/cm² |
042-1060NUHHR | 1064 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >40 J/cm² |
042-1060HHR-i0 | 1064 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >20 J/cm² |
042-1060NUHHR-i0 | 1064 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >40 J/cm² |
042-1060HHR-i0-45 | 1064 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >20 J/cm² |
045-1060T12HHR | 1064 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >20 J/cm² |
045-1060NT12UHHR | 1064 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >40 J/cm² |
045-1060T12HHR-i0 | 1064 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >20 J/cm² |
045-1060NT12UHHR-i0 | 1064 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >40 J/cm² |
045-1060NT12HHR-i0-45 | 1064 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >20 J/cm² |
設(shè)計波長 - 532+1064 nm, LIDT @ 10 ns pulse, 100 Hz
型號 | 波長 | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
062-5306UHHR | 532+1064 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.5% | >10 J/cm² |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | +0.00 mm / -0.12 mm |
厚度公差 | ±0.25 mm |
楔 | < 3 min |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術(shù) | 離子束濺射（IBS） |
附著力和耐久性 | 根據(jù)MIL-C-675A，不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過直徑的85％ |
鍍膜表面平整度 | 透明孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
激光引起的損傷閾值 | 在設(shè)計波長，10 ns脈沖，100 Hz下測量 |
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd：YAG激光器1064 nm，其倍頻532 nm和800 nm，反射率R> 99.9％。
在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下，以10 ns脈沖，100 Hz的反射鏡設(shè)計波長測量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
新型高損傷閾值激光鏡專為飛秒激光器設(shè)計。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計波長包括基本Nd：YAG激光器1064 nm，其倍頻532 nm和800 nm，反射率R> 99.9％。
在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下，以10 ns脈沖，100 Hz的反射鏡設(shè)計波長測量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。
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